论文标题
RB诱导的（3x1）和（6x1）SI（111） - （7x7）：LEED和STM研究
Rb-induced (3x1) and (6x1) reconstructions on Si(111)-(7x7): A LEED and STM study
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论文摘要
我们介绍了SI（111） - （7x7）表面上的Rubidium吸附的研究以及相关的RB诱导的重建，这是通过扫描隧道显微镜（STM）（STM）和低能量电子衍射（LEED）（LEED）通过扫描隧道显微镜（STM）（STM）通过扫描隧道显微镜（STM）和RB覆盖的函数的函数。通过LEED的样本分析可以首次观察RB/SI（111） - （6x1）重建。 STM图像分析允许获得RB/SI（111） - （3x1）表面的第一个真实空间表征。此外，STM提供了有关表面布置的直接和局部信息，以及有关SI和RB原子以及生长动力学之间相互作用的进一步见解。
We present a study of the rubidium adsorption on the Si(111)-(7x7) surface and the related Rb-induced reconstructions as a function of deposition temperature and Rb-coverage via scanning tunneling microscopy (STM) and low-energy electron diffraction (LEED). Sample analysis via LEED allowed to observe for the first time a Rb/Si(111)-(6x1) reconstruction. The STM image analysis allowed to obtain the first real space characterization of the Rb/Si(111)-(3x1) surface. In addition, STM provided a direct and local information on the surface arrangement as well as further insights on the interaction between Si and Rb atoms and on the growth dynamics.
